生产设备

ALD原子层沉积系统(P-1000)

ALD原子层沉积系统(P-1000)

PicosunP-1000 ALD系统设计用于批量喷涂各种3D物品,如机械零件、玻璃或金属板、硬币、手表零件和珠宝、透镜、光学器件和医疗设备。 技术特点: 典型基板尺寸和类型: 各种三维物品,...

ALD原子层沉积系统(P-300F)

ALD原子层沉积系统(P-300F)

• 200 mm wafers in batches up to 50 pcs • 150 mm wafers in batches up to 50 pcs • 100 mm wafers in batches up to 50 pcs • High aspect ratio samples (up to 1:2500) • Substrate materials: Si, glass, quartz, SiC, GaN, GaAs, LiNbO3, LiTaO3, ...

整片器

整片器

产品描述:晶圆整片器。整体为金属结构,转轴高度可调控。...

RTA快速升温设备

RTA快速升温设备

快速退火炉可分为RTA300、RTA200、RTA150三种机型。可运用于高温退火、扩散、热氧化处理、纳米粒子制程、LED/III-V族半导体合金化-减少欧姆接触、ITP回熔、多晶矽退火…...

真空脱泡搅拌机

真空脱泡搅拌机

本机器主要应用在LED、LCD、SMT、医疗器械、电子元器件、纳米分子材料、精细化工材料、印刷电子材料、电子封装材料以及新能源材料等高、尖、精产品的材料的混合搅拌领域。...

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