生产设备

ALD原子层沉积系统(P-1000)

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PicosunP-1000 ALD系统设计用于批量喷涂各种3D物品,如机械零件、玻璃或金属板、硬币、手表零件和珠宝、透镜、光学器件和医疗设备。

技术特点:

典型基板尺寸和类型:

各种三维物品,如机械零件、玻璃或金属板、硬币、手表零件和珠宝、镜片、光学医疗设备装置。

工艺温度:

·         50 – 400°C

典型工艺:

·         Al2O3, ZnO, TiO2

基板加载:

·         带载盘的手动装载

前驱体:

·         液体、固体、气体、臭氧

·         共六管,最多可配备十管

PicosonP-1000 ALD系统设计用于在生产环境中批量处理各种三维物品,如机械零件、硬币、手表零件和珠宝、镜片、光学和医疗设备装置。主要应用包括各种钝化和阻挡层,以显著提高涂层产品的性能和寿命。PicosunP-1000 ALD系统提供创新和灵活的设计,以实现最高质量的ALD沉积,具有卓越的均匀性、最大的产量、最小的系统停机时间和低的拥有成本以及经生产验证的流程。

PicosonP-1000 ALD系统可靠、快速且易于维护,是工业ALD的前沿。

 

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